指日，华中科技大学板滞学院刘世元熏陶团队获胜研发出我邦首款十足自决可控的OPC软件，并已正在相干企业告终效果转化和家产化，填充了邦内空缺。

　　“OPC是芯片安排器材EDA工业软件的一种，没有这种软件，纵使有光刻机，也制不出芯片。从底子磋议到家产化使用，咱们团队整整走了十年。十年磨一剑，便是要处理芯片从安排到修制的卡脖子题目。”

　　据刘世元先容，光刻是芯片修制中最为合头的一种工艺，便是通过光刻成像编制，将安排好的图形迁徙到硅片上。跟着芯片尺寸一贯缩小，硅片上的曝光图形会发生畸变。正在90nm乃至180nm以下芯片的光刻修制前，都必需采用一类名为OPC（光学邻近校正）的算法软件举行优化。没有OPC，统统IC修制厂商将落空将芯片安排转化为芯片产物的才力。

　　刘世元是华中科技大学集成电道衡量装置磋议中央、光谷实行室集成电道衡量检测技巧革新中央主任。他从前师从原华中理工大学校长、闻名板滞学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。

　　2002年，刘世元正在学院使令下，动作最早的几个技巧骨干之一，加盟上海微电子装置有限公司（SMEE），接受邦度863巨大专项——“100nm光刻机”研制工作，为总体构成员、左右学科有劲人。通过3年众的斗争，他组修了SMEE第一个左右工程实行室，处理了扫描投影光刻机中掩模台、工件台、曝光剂量等同步左右的技巧困难。

　　“20年前我列入邦度巨大专项100nm光刻机的研制，回到学校后，我就从来正在从事打算光刻方面的磋议就业，保持做底子的磋议，做合头技巧的攻合。”2005年，从上海回到学校之后，刘世元正在寻求中渐渐找准了自身的学术定位：面向IC修制需求，存身进步光刻与纳米衡量底子外面及学术前沿发展磋议。2010岁首，他清楚选定了两个主攻磋议倾向：面向IC纳米修制的打算光刻与打算衡量。十众年来，他和团队正在该周围的底子外面与技巧革新上做了很众就业，接踵获取邦外里学术界和家产界同行的器重和认同。

　　“2013年，我第一次赴日本京都参预第6届邦际光谱椭偏学大会，当时还只可当听众。到了2016年，正在德邦柏林召开的第7届邦际光谱椭偏学大会上，我应邀做了大会大旨讲述，成为该学术聚会首创23年来第一位做大会大旨讲述的华人学者。”刘世元追思道。当前，刘世元专一集成电道打算光刻的底子磋议已有20余年。刘世元团队保持最底层的代码一行行敲、最底子的公式一个个算，究竟打制出自决可控的OPC软件算法。

　　刘世元体现，欲望自身的磋议效果可以最终转化成产物，为邦度和社会兴盛作奉献jnh。往后，他将携带团队和他所创立的宇微光学软件有限公司加快产物扩张措施，加快进入邦外里芯片修制厂商墟市，力图成为环球芯片家产链中首要的一环。